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氟化氩、氟化氪 光刻胶
行业类别：
半导体技术及应用展
产品范围：
半导体材料制造材料
应用领域：
半导体核心产品
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产品介绍:
宁波南大光电实现从“树脂、单体、光敏剂等原材料” 到光刻胶成品的全链条自主研发，聚焦高端ArF光刻胶，打破国外垄断，在行业内处于突破性地位，研发验证通过了国内首款ArF光刻胶，且有多款ArF光刻胶通过客户端验证实现量产销售。 光刻胶主要产品类型： 干式ArF光刻胶：适配90nm-55nm工艺； 浸没式ArF光刻胶：适配28nm-14nm先进制程； KrF光刻胶：适配0.25um-0.12um工艺。
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