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三氟化氮
行业类别：
半导体技术及应用展
产品范围：
半导体材料制造材料
应用领域：
半导体制造及服务
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产品介绍:
半导体制造用高纯度氟化气体 电子级三氟化氮（NF3）是一种常温常压下呈无色透明的有毒气体，分子量为71.002，沸点为-129.06℃。该气体在微电子工业中主要用于等离子蚀刻工艺，其分解产生的活性氟离子可对硅、氮化硅等材料实现高选择性蚀刻且无残留。
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