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NF-300H TEOS 设备为自主研发的产品，主要应用于沉积时间需求长的薄膜工艺，在均匀性、颗粒度、粗糙度、应力及产能等方面实现技术突破，设备性能指标达同类产品水平。产品特点：高产能设计和可实现多种薄膜沉积的快速切换可满足沉积时间需求长的薄膜工艺满足300-600℃高温沉积需求 PM腔内可进行多片wafer沉积和wafer自动升降旋转功能通过S2安全认证

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