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产品介绍:
NF-300M Supra-H设备是我公司自主研发的应用于新一代三维闪存（3D-NAND）生产线上的叠层薄膜沉积设备。应用于3D-NAND闪存芯片的生产。可实现SiO2、SiN多层薄膜堆叠结构，在均匀性、颗粒度、粗糙度、应力及产能等方面实现技术突破，设备性能指标达同类产品水平。
产品特点：
高产能设计和可实现多种薄膜沉积的快速切换。
可实现多层SiO2、SiN（ONON)堆叠功能。
PM腔内可进行多片wafer沉积和wafer自动升降旋转功能。
通过S2安全认证。
